Substrát LiAlO2

Substrát LiAlO2 se týká substrátu vyrobeného z oxidu lithného a hliníku (LiAlO2).LiAlO2 je krystalická sloučenina patřící do prostorové skupiny R3m a má trojúhelníkovou krystalovou strukturu.

Substráty LiAlO2 byly použity v různých aplikacích, včetně růstu tenkých vrstev, epitaxních vrstev a heterostruktur pro elektronická, optoelektronická a fotonická zařízení.Díky svým vynikajícím fyzikálním a chemickým vlastnostem je vhodný zejména pro vývoj polovodičových součástek se širokým pásmem.

Jedna z hlavních aplikací substrátů LiAlO2 je v oblasti zařízení na bázi nitridu galia (GaN), jako jsou tranzistory s vysokou elektronovou mobilitou (HEMT) a diody vyzařující světlo (LED).Nesoulad mřížky mezi LiAlO2 a GaN je relativně malý, což z něj činí vhodný substrát pro epitaxní růst tenkých vrstev GaN.Substrát LiAlO2 poskytuje vysoce kvalitní šablonu pro ukládání GaN, což má za následek zlepšený výkon a spolehlivost zařízení.

Substráty LiAlO2 se používají také v jiných oblastech, jako je růst feroelektrických materiálů pro paměťová zařízení, vývoj piezoelektrických zařízení a výroba polovodičových baterií.Jejich jedinečné vlastnosti, jako je vysoká tepelná vodivost, dobrá mechanická stabilita a nízká dielektrická konstanta, jim dávají výhody v těchto aplikacích.

Stručně řečeno, substrát LiAlO2 se týká substrátu vyrobeného z oxidu lithného a hliníku.Substráty LiAlO2 se používají v různých aplikacích, zejména pro růst zařízení na bázi GaN a vývoj dalších elektronických, optoelektronických a fotonických zařízení.Mají žádoucí fyzikální a chemické vlastnosti, které je činí vhodnými pro nanášení tenkých filmů a heterostruktur a zvyšují výkon zařízení.